满足超高纯工艺，适用于超高纯应用 浸润金属部件为SUS316L，广泛的化学兼容性 外部机械抛光至镜面，内部电解抛光至粗糙度 Ra≤0.25μm (氦气)：≤1.0x10 std cm /s 连接尺寸：1/4" 至 1/2" 连接方式：金属面密封接头 提供多种容积定制服务
前驱体源瓶 在ALD、CVD等半导体工艺制程中，选择合适的前驱体对工艺控制、薄膜性能等方面至关重要:同时根据前驱体特性，如挥发性、反应性等，配以合适的源瓶对工艺会有协同效应。迈格诺科全新系列源瓶组件通过对选材到成型工艺的高品质把控，能适应绝大部分前驱体封装存储，为整段沉积工艺提供绝佳的安全性和洁净度保障。
为半导体、生物制药和化学沉积行业提供可靠的流体介质存储及输送方案。
